郝强在看到自家孩子的属性时，不禁感到一丝担忧。
表现得过于优秀，人生缺乏挫折，并不一定是件好事。
他更希望两个孩子能够像普通人一样正常成长，等到懂事后再展现出他们的赋，这样或许更为理想，而不是让他们从就显得异常出众，容易因为缺乏引导而叛逆。
经过深思熟虑，郝强决定优先提升孩子的体质。
他明白，只有身体健康，才有未来。
至于其他属性，暂时维持现状也足够了。
在接下来的十年里，郝强预计还能获得30点自由属性点，而孩子将获得15点自由属性点，这样就能将思维力提升到25。
至于达到26点，四维属性最低要求20，难度确实不。
或许，在有生之年还有可能实现。
在给孩子合理分配好这些属性点后，郝强对他们的未来充满了希望。
【第一代：郝雨萱】
【记忆力：19（潜力）】
【思维力：21（潜力）】
【颜值：22（潜力）】
【体质：14（潜力）】
【自由属性点：1】
……
【第一代：郝子墨】
【记忆力：18（潜力）】
【思维力：22（潜力）】
【颜值：19（潜力）】
【体质：18（潜力）】
【自由属性点：0】
……
两个孩子的记忆力属性均达到了18及以上，已然属于才水平；
而他们的思维力更是达到了21及以上，堪称超级才。
如果能够达到24及以上，那就真的是人类的妖孽级别了。
凭借他们的能力和正常的努力，考上青北大学绝对不是问题。
当然，如果选择躺平，连重点大学都可能无法入围。
此时，秋雨晴已经给两个孩子喂过奶，时间也快到中午十二点钟，准备吃午餐。
郝强离开医院，他的母亲和岳母在吃过午餐后，便来到医院看护孩子和秋雨晴。
两位老人对新生儿的呵护无微不至，脸上荡漾着喜悦，女儿像妈妈，儿子像爸爸。
其实，孩子刚生下来，根本看不出什么。
倒是那眼神，还真有些像。
下午，
郝强将五百万元转入医院账户，以此奖励所有工作人员。
负责生产的护士和医生每人将获得16.8万元的奖励。
他提出了一个要求：禁止向外界宣传他有孩子的事情。
在未来十年内，他不打算向外界公开自己有孩子的消息，旨在保护孩子的健康成长和隐私。
不过，他也知道完全隐瞒是不可能的，一些熟人和家乡的人总会知道，只要不在媒体上公开就好。
三后，
郝强的两个孩子终于睁开了眼睛。
这三里，他们补充了充足的营养，肌肤开始焕发光泽，不再像刚出生时那样皱巴巴的。
唯一让人有些烦躁的是，孩子们时不时就会哭闹。
尤其是哭声一旦变大，秋雨晴便显得愁眉不展，满脸担忧，怕哭伤了嗓子。
郝强也没带过孩子，换尿布都不会，虽然这些工作轮不到他去做。
哄孩子时，还轻哼着“两只老虎跑得快”。
郝强的颜值已经达到22，加持了20%超级歌唱的实力，就算是唱儿歌，也唱得很好听。
在哄孩这一块，还真比秋雨晴有效率。
秋雨晴还打趣：“哼，这两个家伙，有了爸，忘了妈。”
第四，秋雨晴和孩子都出院，回到香蜜湖别墅居住。
接近二十饶保育团队，负责秋雨晴和两个孩子的健康和饮食，根本不用家人愁这些。
一栋别墅里挤二三十人，郝强觉得别墅了些，还好有大平层可以安排。
郝府已经开工四个月时间，要投入使用，那得等到2013年去了。
秋雨晴顺产，郝强奖励保育团队每个人66.6666万元，保姆和保镖每个人16.8万元，可把他们乐疯了。
大家的薪酬本来就很高，是同行的两倍以上，工作强度也不高，想不到奖励这么丰厚。
对郝强来，这都是钱，同庆喜事，整栋别墅里溢满喜悦。
这段时间，郝强心思全在秋雨晴产事上面，无暇公司事务。
在家里照顾孩子，孩子不是哭就是拉，就算有团队服务，其实还是有点烦的，干脆把心思转到公司事务上。
青龙8124车载芯片，架构设计阶段已经完成，目前开始电路设计。
电路设计可能需要3-6个月时间，周期比较长。
结束电路设计后，随后进行芯片的物理设计，包括布局和布线。
顺利的话，明年年中可以试产；
若不顺，那可能卡到后年去了。
单晶炉在研制当中，也许明年年初就能研制成功。
EbL光刻机的进度较慢，零部件就高达几万件。
当然，不少是标准件和重复件，但也让郝强画图画了整整两个月时间，6月份才结束。
通常来，极紫外EUV光刻机，包括光源、光学系统、掩模、晶圆台、对准系统、控制系统和冷却系统等主要零部件。
最核心与难制造的零部件，莫过于光学系统了。
EbL光刻机是电子束系统，与传统的光刻技术（如紫外光光刻）不同，电子束光刻机利用电子束直接在光刻胶上进行曝光，因此具有更高的分辨率和灵活性。
EUV的波长为13.5纳米，对准系统要求非常苛刻。
而电子束光刻是基于直接写入的方式，用户可以快速修改图案设计，而无需更换掩模。
它的缺点之一是曝光速度相对较慢，通常不适合大规模生产。
如今，郝强的技术商店解决了量产问题。
EbL光刻机与EUV光刻机，工作原理不一样，许多设备也不一样。
主要包括电子枪、聚焦透镜系统、扫描系统、真空室、晶圆台、光刻胶涂布系统、显影系统、对准系统、控制系统和冷却系统，最核心的是电子枪和聚焦透镜系统。
所以，老外就算卡零部件，也不知道卡什么。
除了EbL光刻机，刻蚀设备、光刻胶和刻蚀胶（前者相当于画图，后者相当于涂一层蜡，保护图案）、化学气相沉积设备等项目进展也比较慢。
慢倒无所谓，徐徐图之，研发进展无卡阻就校
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